特許ランキング - 出願人詳細情報 -

日新イオン機器株式会社

※ ログインすれば出願人(日新イオン機器株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2015年出願公開件数ランキング　　　第1659位　14件（2014年：第1043位　26件）

　■　2015年特許取得件数ランキング　　　第1611位　11件（2014年：第1674位　14件）

（ランキング更新日：2025年3月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

日新イオン機器株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2015-211152	真空処理システム、真空処理装置、潤滑剤供給装置および潤滑剤供給方法	2015年11月24日
特開 2015-203140	イオン注入装置	2015年11月16日
特開 2015-173052	イオン注入装置及びイオン注入方法	2015年10月 1日
特開 2015-170451	イオン源及びそのイオン源を用いたイオン照射装置	2015年 9月28日
特開 2015-164142	イオンビーム照射装置	2015年 9月10日
特開 2015-145807	微粒子検出装置	2015年 8月13日
特開 2015-115467	基板保持装置、半導体製造装置及び基板吸着判別方法	2015年 6月22日
特開 2015-109193	プラズマ源	2015年 6月11日
再表 2013-122088	イオンビーム照射装置	2015年 5月11日
特開 2015-73066	ロードロック装置	2015年 4月16日
特開 2015-65010	防着板支持部材およびこれを備えたプラズマ源	2015年 4月 9日
特開 2015-57789	エネルギー線照射システム	2015年 3月26日
特開 2015-53208	イオン源	2015年 3月19日
特開 2015-15330	半導体製造装置	2015年 1月22日
特開 2015-15372	静電チャックシステムおよび半導体製造装置	2015年 1月22日

15 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2015-211152 2015-203140 2015-173052 2015-170451 2015-164142 2015-145807 2015-115467 2015-109193 2013-122088 2015-73066 2015-65010 2015-57789 2015-53208 2015-15330 2015-15372

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日新イオン機器株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数