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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1659位 14件 (2014年:第1043位 26件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1611位 11件 (2014年:第1674位 14件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2015-211152 | 真空処理システム、真空処理装置、潤滑剤供給装置および潤滑剤供給方法 | 2015年11月24日 | |
特開 2015-203140 | イオン注入装置 | 2015年11月16日 | |
特開 2015-173052 | イオン注入装置及びイオン注入方法 | 2015年10月 1日 | |
特開 2015-170451 | イオン源及びそのイオン源を用いたイオン照射装置 | 2015年 9月28日 | |
特開 2015-164142 | イオンビーム照射装置 | 2015年 9月10日 | |
特開 2015-145807 | 微粒子検出装置 | 2015年 8月13日 | |
特開 2015-115467 | 基板保持装置、半導体製造装置及び基板吸着判別方法 | 2015年 6月22日 | |
特開 2015-109193 | プラズマ源 | 2015年 6月11日 | |
再表 2013-122088 | イオンビーム照射装置 | 2015年 5月11日 | |
特開 2015-73066 | ロードロック装置 | 2015年 4月16日 | |
特開 2015-65010 | 防着板支持部材およびこれを備えたプラズマ源 | 2015年 4月 9日 | |
特開 2015-57789 | エネルギー線照射システム | 2015年 3月26日 | |
特開 2015-53208 | イオン源 | 2015年 3月19日 | |
特開 2015-15330 | 半導体製造装置 | 2015年 1月22日 | |
特開 2015-15372 | 静電チャックシステムおよび半導体製造装置 | 2015年 1月22日 |
15 件中 1-15 件を表示
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2015-211152 2015-203140 2015-173052 2015-170451 2015-164142 2015-145807 2015-115467 2015-109193 2013-122088 2015-73066 2015-65010 2015-57789 2015-53208 2015-15330 2015-15372
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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9月25日(水) - 愛知 名古屋市
9月25日(水) - 東京 千代田区
9月25日(水) - 東京 千代田区
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9月26日(木) -
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9月27日(金) - 東京 港区
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