特許ランキング - 出願人詳細情報 -

日新イオン機器株式会社

※ ログインすれば出願人(日新イオン機器株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2015年出願公開件数ランキング　　　第1659位　14件（2014年：第1043位　26件）

　■　2015年特許取得件数ランキング　　　第1611位　11件（2014年：第1674位　14件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

日新イオン機器株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2015-211152	真空処理システム、真空処理装置、潤滑剤供給装置および潤滑剤供給方法	2015年11月24日
特開 2015-203140	イオン注入装置	2015年11月16日
特開 2015-173052	イオン注入装置及びイオン注入方法	2015年10月 1日
特開 2015-170451	イオン源及びそのイオン源を用いたイオン照射装置	2015年 9月28日
特開 2015-164142	イオンビーム照射装置	2015年 9月10日
特開 2015-145807	微粒子検出装置	2015年 8月13日
特開 2015-115467	基板保持装置、半導体製造装置及び基板吸着判別方法	2015年 6月22日
特開 2015-109193	プラズマ源	2015年 6月11日
再表 2013-122088	イオンビーム照射装置	2015年 5月11日
特開 2015-73066	ロードロック装置	2015年 4月16日
特開 2015-65010	防着板支持部材およびこれを備えたプラズマ源	2015年 4月 9日
特開 2015-57789	エネルギー線照射システム	2015年 3月26日
特開 2015-53208	イオン源	2015年 3月19日
特開 2015-15330	半導体製造装置	2015年 1月22日
特開 2015-15372	静電チャックシステムおよび半導体製造装置	2015年 1月22日

15 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2015-211152 2015-203140 2015-173052 2015-170451 2015-164142 2015-145807 2015-115467 2015-109193 2013-122088 2015-73066 2015-65010 2015-57789 2015-53208 2015-15330 2015-15372

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日新イオン機器株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数