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日新イオン機器株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2162位 10件
（
2020年：第1571位 15件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第2213位 7件
（2020年：第1660位 10件）
（ランキング更新日：2026年4月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-197228 | イオン源 | 2021年12月27日 | |
| 特開 2021-197459 | ウエハ離脱装置及びウエハ離脱方法 | 2021年12月27日 | |
| 特開 2021-152424 | 基板冷却装置 | 2021年 9月30日 | |
| 特開 2021-141053 | イオンビーム照射装置の運転方法、イオンビーム照射装置 | 2021年 9月16日 | |
| 特開 2021-120944 | イオン注入装置 | 2021年 8月19日 | |
| 特開 2021-48133 | イオン注入装置 | 2021年 3月25日 | |
| 特開 2021-48355 | 基板処理装置 | 2021年 3月25日 | |
| 特開 2021-40081 | イオンビーム照射装置のクリーニング方法 | 2021年 3月11日 | |
| 特開 2021-26870 | ビームプロファイルの判定方法およびイオンビーム照射装置 | 2021年 2月22日 | |
| 特開 2021-7140 | 加熱装置 | 2021年 1月21日 |
10 件中 1-10 件を表示
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2021-197228 2021-197459 2021-152424 2021-141053 2021-120944 2021-48133 2021-48355 2021-40081 2021-26870 2021-7140
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