ホーム > 特許ランキング > 日新イオン機器株式会社 > 2026年の出願公開
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第805位 8件
(
2025年:第1827位 11件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第1027位 5件
(
2025年:第3491位 4件)
(ランキング更新日:2026年4月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-53150 | イオン源およびイオン源の運転方法 | 2026年 3月25日 | |
| 特開 2026-29028 | イオン注入装置 | 2026年 2月20日 | |
| 特開 2026-26106 | 気化器及びこれを備えたイオン源、アルミニウム含有蒸気の生成方法 | 2026年 2月16日 | |
| 特開 2026-15694 | ガス供給装置および処理装置 | 2026年 1月30日 | |
| 特開 2026-11475 | 基板処理装置及び基板離脱方法 | 2026年 1月23日 | |
| 特開 2026-10615 | 基板支持装置 | 2026年 1月22日 | |
| 特開 2026-9523 | 気化器及びイオン源 | 2026年 1月21日 | |
| 特開 2026-2315 | ウェーハ処理装置 | 2026年 1月 8日 |
8 件中 1-8 件を表示
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2026-53150 2026-29028 2026-26106 2026-15694 2026-11475 2026-10615 2026-9523 2026-2315
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