ホーム > 特許ランキング > 日新イオン機器株式会社 > 2026年の出願公開
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第875位 23件
(
2025年:第1876位 11件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第1720位 8件
(
2025年:第3537位 4件)
(ランキング更新日:2026年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-168667 | ウェーハ製造方法 | 2026年10月16日 | |
| 特開 2026-165681 | 基板処理装置 | 2026年10月14日 | |
| 特開 2026-154726 | 基板保持装置およびイオン注入装置 | 2026年10月 5日 | |
| 特開 2026-148999 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2026年 9月25日 | |
| 特開 2026-147305 | ファラデー装置、イオン注入装置 | 2026年 9月17日 | |
| 特開 2026-141193 | 搬送アーム、基板処理装置 | 2026年 9月 4日 | |
| 特開 2026-133733 | ロードロック装置 | 2026年 8月20日 | |
| 特開 2026-129632 | イオン注入装置 | 2026年 8月12日 | |
| 特開 2026-122633 | ロードロック装置 | 2026年 7月29日 | |
| 特開 2026-120108 | イオン注入装置 | 2026年 7月22日 | |
| 特開 2026-120107 | イオン注入装置 | 2026年 7月22日 | |
| 特開 2026-101591 | イオン源 | 2026年 6月22日 | |
| 特開 2026-98965 | イオン源 | 2026年 6月18日 | |
| 特開 2026-92782 | イオン源 | 2026年 6月 8日 | |
| 特開 2026-78655 | 半導体製造装置のメンテナンス方法 | 2026年 5月15日 |
23 件中 1-15 件を表示
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2026-168667 2026-165681 2026-154726 2026-148999 2026-147305 2026-141193 2026-133733 2026-129632 2026-122633 2026-120108 2026-120107 2026-101591 2026-98965 2026-92782 2026-78655
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10月23日(金) - 大阪 大阪市
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10月19日(月) - 大阪 中央区
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