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日新イオン機器株式会社

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 ■ 2026年 出願公開件数ランキング    第875位 23件 (上昇2025年:第1876位 11件)

 ■ 2026年 特許取得件数ランキング    第1720位 8件 (上昇2025年:第3537位 4件)

(ランキング更新日:2026年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2026-168667 ウェーハ製造方法 2026年10月16日
特開 2026-165681 基板処理装置 2026年10月14日
特開 2026-154726 基板保持装置およびイオン注入装置 2026年10月 5日
特開 2026-148999 基板処理装置及び基板処理方法 2026年 9月25日
特開 2026-147305 ファラデー装置、イオン注入装置 2026年 9月17日
特開 2026-141193 搬送アーム、基板処理装置 2026年 9月 4日
特開 2026-133733 ロードロック装置 2026年 8月20日
特開 2026-129632 イオン注入装置 2026年 8月12日
特開 2026-122633 ロードロック装置 2026年 7月29日
特開 2026-120108 イオン注入装置 2026年 7月22日
特開 2026-120107 イオン注入装置 2026年 7月22日
特開 2026-101591 イオン源 2026年 6月22日
特開 2026-98965 イオン源 2026年 6月18日
特開 2026-92782 イオン源 2026年 6月 8日
特開 2026-78655 半導体製造装置のメンテナンス方法 2026年 5月15日

23 件中 1-15 件を表示

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2026-168667 2026-165681 2026-154726 2026-148999 2026-147305 2026-141193 2026-133733 2026-129632 2026-122633 2026-120108 2026-120107 2026-101591 2026-98965 2026-92782 2026-78655

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