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日新イオン機器株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第2121位 11件
（
2016年：第1586位 15件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1441位 13件
（
2016年：第1730位 11件）
（ランキング更新日：2025年6月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2017-212187 | ビーム調整装置及びイオン注入装置 | 2017年11月30日 | |
| 特開 2017-199477 | イオン源 | 2017年11月 2日 | |
| 特開 2017-199554 | イオンビーム照射装置及びイオンビーム照射方法 | 2017年11月 2日 | |
| 特開 2017-199603 | イオンビームエッチング装置 | 2017年11月 2日 | |
| 特開 2017-157779 | 半導体装置の製造方法および半導体装置 | 2017年 9月 7日 | |
| 特開 2017-152089 | イオンビーム照射装置 | 2017年 8月31日 | |
| 特開 2017-107641 | 大気圧プラズマ装置 | 2017年 6月15日 | |
| 特開 2017-91604 | イオンビーム照射装置 | 2017年 5月25日 | |
| 特開 2017-91826 | 絶縁スペーサ、電極体、荷電粒子源および荷電粒子ビーム照射装置 | 2017年 5月25日 | |
| 特開 2017-41441 | イオン注入システム | 2017年 2月23日 | |
| 特開 2017-22061 | イオンビーム照射装置 | 2017年 1月26日 | |
| 特開 2017-4907 | 真空チャンバ及び質量分析電磁石 | 2017年 1月 5日 |
12 件中 1-12 件を表示
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2017-212187 2017-199477 2017-199554 2017-199603 2017-157779 2017-152089 2017-107641 2017-91604 2017-91826 2017-41441 2017-22061 2017-4907
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