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日新イオン機器株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第1072位 25件
（
2010年：第1636位 16件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2601位 7件
（
2010年：第1644位 12件）
（ランキング更新日：2026年2月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-253775 | イオン注入装置 | 2011年12月15日 | |
| 特開 2011-249096 | イオン注入装置 | 2011年12月 8日 | |
| 特開 2011-243450 | イオン注入装置 | 2011年12月 1日 | |
| 特開 2011-233387 | ビーム電流密度分布の調整目標設定方法及びイオン注入装置 | 2011年11月17日 | |
| 特開 2011-233386 | イオン注入装置及びビーム電流密度分布調整方法 | 2011年11月17日 | |
| 特開 2011-228044 | イオン源及びイオン注入装置 | 2011年11月10日 | |
| 特開 2011-222733 | ウェーハハンドリング方法およびイオン注入装置 | 2011年11月 4日 | |
| 特開 2011-222386 | イオン注入方法およびイオン注入装置 | 2011年11月 4日 | |
| 特開 2011-198667 | イオン注入装置およびイオン注入方法 | 2011年10月 6日 | |
| 特開 2011-198738 | 複数の磁場集中部材をカバーする保護部材を備えたイオンビーム照射装置用磁石 | 2011年10月 6日 | |
| 特開 2011-192583 | イオンビーム照射装置 | 2011年 9月29日 | |
| 特開 2011-192582 | イオンビーム照射装置 | 2011年 9月29日 | |
| 特開 2011-187403 | 非対称なアインツェルレンズを有するビーム偏向器を備えたイオン注入装置 | 2011年 9月22日 | |
| 特開 2011-187393 | ウエハスキャン装置及びイオン注入装置 | 2011年 9月22日 | |
| 特開 2011-187309 | イオンビーム照射装置 | 2011年 9月22日 |
25 件中 1-15 件を表示
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2011-253775 2011-249096 2011-243450 2011-233387 2011-233386 2011-228044 2011-222733 2011-222386 2011-198667 2011-198738 2011-192583 2011-192582 2011-187403 2011-187393 2011-187309
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