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日新イオン機器株式会社

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日新イオン機器株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-253775	イオン注入装置	2011年12月15日
特開 2011-249096	イオン注入装置	2011年12月 8日
特開 2011-243450	イオン注入装置	2011年12月 1日
特開 2011-233387	ビーム電流密度分布の調整目標設定方法及びイオン注入装置	2011年11月17日
特開 2011-233386	イオン注入装置及びビーム電流密度分布調整方法	2011年11月17日
特開 2011-228044	イオン源及びイオン注入装置	2011年11月10日
特開 2011-222733	ウェーハハンドリング方法およびイオン注入装置	2011年11月 4日
特開 2011-222386	イオン注入方法およびイオン注入装置	2011年11月 4日
特開 2011-198667	イオン注入装置およびイオン注入方法	2011年10月 6日
特開 2011-198738	複数の磁場集中部材をカバーする保護部材を備えたイオンビーム照射装置用磁石	2011年10月 6日
特開 2011-192583	イオンビーム照射装置	2011年 9月29日
特開 2011-192582	イオンビーム照射装置	2011年 9月29日
特開 2011-187403	非対称なアインツェルレンズを有するビーム偏向器を備えたイオン注入装置	2011年 9月22日
特開 2011-187393	ウエハスキャン装置及びイオン注入装置	2011年 9月22日
特開 2011-187309	イオンビーム照射装置	2011年 9月22日

25 件中 1-15 件を表示

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2011-253775 2011-249096 2011-243450 2011-233387 2011-233386 2011-228044 2011-222733 2011-222386 2011-198667 2011-198738 2011-192583 2011-192582 2011-187403 2011-187393 2011-187309

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