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日新イオン機器株式会社

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  2018年 出願公開件数ランキング    第1925位 11件 上昇2017年:第2121位 11件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第1497位 12件 下降2017年:第1441位 13件)

(ランキング更新日:2026年2月13日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2018-198114 プラズマ源 2018年12月13日
特開 2018-181717 位置決めピン、イオン源 2018年11月15日
特開 2018-182289 静電チャック 2018年11月15日
特開 2018-182290 静電チャック 2018年11月15日
特開 2018-147864 イオンビーム照射装置、イオン源の着脱方法 2018年 9月20日
特開 2018-85369 半導体製造装置、基板支持装置の冷却方法 2018年 5月31日
特開 2018-78265 加熱装置、半導体製造装置 2018年 5月17日
特開 2018-78266 加熱装置、半導体製造装置 2018年 5月17日
特開 2018-49809 ビーム電流計測器、荷電粒子ビーム照射装置 2018年 3月29日
特開 2018-45905 イオン源 2018年 3月22日
特開 2018-32568 ホローカソード及びこれに用いられる電子放出部材 2018年 3月 1日

11 件中 1-11 件を表示

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2018-198114 2018-181717 2018-182289 2018-182290 2018-147864 2018-85369 2018-78265 2018-78266 2018-49809 2018-45905 2018-32568

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