ホーム > 特許ランキング > 東京応化工業株式会社 > 2016年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2016年 出願公開件数ランキング 第288位 133件
(2015年:第298位 135件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第233位 146件
(2015年:第226位 131件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5864175 | 液体容器への液体充填方法 | 2016年 2月17日 | |
特許 5864926 | 積層体、分離方法、及び製造方法 | 2016年 2月17日 | |
特許 5865742 | 溶剤現像ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2016年 2月17日 | |
特許 5866180 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2016年 2月17日 | |
特許 5860735 | レジストパターン形成方法 | 2016年 2月16日 | |
特許 5856809 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2016年 2月10日 | |
特許 5857111 | 化合物 | 2016年 2月10日 | |
特許 5854692 | 分散されたデンドリマー化合物の粒子を表面に有する基板の製造方法、及びデンドリマー化合物の分散粒子を表面に有する基板 | 2016年 2月 9日 | |
特許 5856441 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 | 2016年 2月 9日 | |
特許 5851224 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2016年 2月 3日 | |
特許 5851277 | レジストパターン形成方法 | 2016年 2月 3日 | |
特許 5851282 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2016年 2月 3日 | |
特許 5851307 | 遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法 | 2016年 2月 3日 | |
特許 5846568 | 相分離構造を有する層を表面に備える基板の製造方法 | 2016年 1月20日 | |
特許 5846888 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2016年 1月20日 |
154 件中 136-150 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5864175 5864926 5865742 5866180 5860735 5856809 5857111 5854692 5856441 5851224 5851277 5851282 5851307 5846568 5846888
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
〒141-0031 東京都品川区西五反田3-6-20 いちご西五反田ビル8F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市中央区北浜3丁目5-19 淀屋橋ホワイトビル2階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒220-0004 横浜市西区北幸1-5-10 JPR横浜ビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング