特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第288位　133件（2015年：第298位　135件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第233位　146件（2015年：第226位　131件）

（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 5864175	液体容器への液体充填方法	2016年 2月17日
特許 5864926	積層体、分離方法、及び製造方法	2016年 2月17日
特許 5865742	溶剤現像ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2016年 2月17日
特許 5866180	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2016年 2月17日
特許 5860735	レジストパターン形成方法	2016年 2月16日
特許 5856809	レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2016年 2月10日
特許 5857111	化合物	2016年 2月10日
特許 5854692	分散されたデンドリマー化合物の粒子を表面に有する基板の製造方法、及びデンドリマー化合物の分散粒子を表面に有する基板	2016年 2月 9日
特許 5856441	レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物	2016年 2月 9日
特許 5851224	レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2016年 2月 3日
特許 5851277	レジストパターン形成方法	2016年 2月 3日
特許 5851282	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2016年 2月 3日
特許 5851307	遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法	2016年 2月 3日
特許 5846568	相分離構造を有する層を表面に備える基板の製造方法	2016年 1月20日
特許 5846888	レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2016年 1月20日

154 件中 136-150 件を表示

... 10

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5864175 5864926 5865742 5866180 5860735 5856809 5857111 5854692 5856441 5851224 5851277 5851282 5851307 5846568 5846888

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数