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東京応化工業株式会社

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　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第233位　146件（2015年：第226位　131件）

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 5891013	紫外線照射装置及び基板処理装置	2016年 3月22日
特許 5891075	ブロックコポリマー含有組成物及びパターンの縮小方法	2016年 3月22日
特許 5887166	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2016年 3月16日
特許 5885143	ガイドパターン形成用ネガ型現像用レジスト組成物、ガイドパターン形成方法、ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法	2016年 3月15日
特許 5882583	エアギャップ形成用シリカ系被膜形成材料及びエアギャップ形成方法	2016年 3月 9日
特許 5879209	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2016年 3月 8日
特許 5875068	棒状分子の分子長分布の狭小化方法	2016年 3月 2日
特許 5875850	積層体及び分離方法	2016年 3月 2日
特許 5876758	インク組成物およびパターン形成方法	2016年 3月 2日
特許 5871562	フォトリソグラフィ用剥離液及びパターン形成方法	2016年 3月 1日
特許 5871577	レジストパターン形成方法	2016年 3月 1日
特許 5871591	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2016年 3月 1日
特許 5871771	ポジ型感光性樹脂組成物、ポリイミド樹脂パターンの形成方法、及びパターン化されたポリイミド樹脂膜	2016年 3月 1日
特許 5873250	レジストパターン形成方法	2016年 3月 1日
特許 5864049	グラフェン基板の製造方法	2016年 2月17日

154 件中 121-135 件を表示

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5891013 5891075 5887166 5885143 5882583 5879209 5875068 5875850 5876758 5871562 5871577 5871591 5871771 5873250 5864049

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