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東京応化工業株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第288位 133件
（
2015年：第298位 135件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第233位 146件
（
2015年：第226位 131件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5978055 | 化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2016年 8月24日 | |
| 特許 5978137 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2016年 8月24日 | |
| 特許 5978139 | レジストパターン形成方法 | 2016年 8月24日 | |
| 特許 5979660 | コンタクトホールパターンの形成方法 | 2016年 8月24日 | |
| 特許 5973639 | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルタの形成方法及び表示装置の製造方法 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5969253 | 表面処理剤及び表面処理方法 | 2016年 8月17日 | |
| 特許 5965682 | 高分子化合物の製造方法及びレジストパターン形成方法 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5967851 | フォトニック結晶周期構造のパラメータ計算方法、プログラム及び記録媒体 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5960511 | シリコン異方性エッチング方法 | 2016年 8月 2日 | |
| 特許 5961434 | パターン形成方法 | 2016年 8月 2日 | |
| 特許 5956224 | 剥離用組成物および剥離方法 | 2016年 7月27日 | |
| 特許 5955545 | マスク材組成物、及び不純物拡散層の形成方法 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5950743 | 有機半導体素子及び有機半導体素子の製造方法 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5952040 | 光インプリント用の膜形成組成物及び光学部材の製造方法 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5948090 | 化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2016年 7月 6日 |
154 件中 61-75 件を表示
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5978055 5978137 5978139 5979660 5973639 5969253 5965682 5967851 5960511 5961434 5956224 5955545 5950743 5952040 5948090
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