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東京応化工業株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第288位 133件
（
2015年：第298位 135件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第233位 146件
（
2015年：第226位 131件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6002467 | レジストパターン形成方法、レジスト組成物 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 5999800 | 深紫外ＬＥＤ及びその製造方法 | 2016年 9月28日 | |
| 特許 5997041 | 感光性樹脂組成物 | 2016年 9月21日 | |
| 特許 5990373 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 | 2016年 9月14日 | |
| 特許 5991846 | 膜形成用組成物、拡散剤組成物、膜形成用組成物の製造方法、及び拡散剤組成物の製造方法 | 2016年 9月14日 | |
| 特許 5993654 | ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法、及び下地剤 | 2016年 9月14日 | |
| 特許 5988273 | 新規化合物 | 2016年 9月 7日 | |
| 特許 5988385 | ガラス基板平坦化材料、平坦化ガラス基板、及び平坦化ガラス基板の製造方法 | 2016年 9月 7日 | |
| 特許 5990037 | 重ね合わせ装置および重ね合わせ方法 | 2016年 9月 7日 | |
| 特許 5981159 | 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5981167 | 感光性樹脂組成物 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5982176 | 基板処理システムおよび基板処理方法 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5982180 | 洗浄装置及び洗浄方法 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5977532 | 支持体分離方法及び支持体分離装置 | 2016年 8月24日 | |
| 特許 5977592 | 貼付装置 | 2016年 8月24日 |
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6002467 5999800 5997041 5990373 5991846 5993654 5988273 5988385 5990037 5981159 5981167 5982176 5982180 5977532 5977592
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新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～
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【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ～ つながりを育む出会いの場（知財ネットワーク交流会）～
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