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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第318位 109件 (2022年:第291位 121件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第281位 118件 (2022年:第243位 132件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7274957 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2023年 5月17日 | |
特許 7274982 | 充填剤、基板の処理方法、及び充填剤の製造方法 | 2023年 5月17日 | |
特許 7275205 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2023年 5月17日 | |
特許 7271776 | 水性洗浄液及び電子デバイスの洗浄方法 | 2023年 5月11日 | |
特許 7270347 | レジストパターン形成方法 | 2023年 5月10日 | |
特許 7269578 | 膜体の製造方法、水素検出用素子の製造方法 | 2023年 5月 9日 | |
特許 7269716 | 硬化性組成物、硬化物、マイクロレンズ、及び光学素子 | 2023年 5月 9日 | |
特許 7269721 | 感エネルギー性樹脂組成物、硬化物及び硬化物の製造方法 | 2023年 5月 9日 | |
特許 7269728 | 量子ドット分散液の製造方法、及び量子ドット分散液 | 2023年 5月 9日 | |
特許 7269881 | 化合物、エポキシ硬化触媒、及び化合物の製造方法 | 2023年 5月 9日 | |
特許 7263153 | 感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法 | 2023年 4月24日 | |
特許 7263239 | 気体分離方法、及び気体分離膜 | 2023年 4月24日 | |
特許 7257884 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2023年 4月14日 | |
特許 7257142 | 化学増幅型感光性組成物、感光性ドライフィルム、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法及びめっき造形物の製造方法 | 2023年 4月13日 | |
特許 7256065 | ハードマスク形成用組成物及び電子部品の製造方法 | 2023年 4月11日 |
121 件中 76-90 件を表示
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7274957 7274982 7275205 7271776 7270347 7269578 7269716 7269721 7269728 7269881 7263153 7263239 7257884 7257142 7256065
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11月22日(金) -
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11月25日(月) - 岐阜 各務原市
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
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11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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