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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第318位 109件 (2022年:第291位 121件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第281位 118件 (2022年:第243位 132件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7345317 | 充填剤及び基板の処理方法 | 2023年 9月15日 | |
特許 7341984 | クラッディング用組成物、及び金属/樹脂接合部材の製造方法 | 2023年 9月11日 | |
特許 7340969 | シリコンエッチング液、シリコンエッチング方法、及びシリコンフィン構造体の製造方法 | 2023年 9月 8日 | |
特許 7340976 | ハードマスク形成用組成物及び電子部品の製造方法 | 2023年 9月 8日 | |
特許 7341074 | 交互共重合体、交互共重合体の製造方法、高分子化合物の製造方法 | 2023年 9月 8日 | |
特許 7339809 | 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、めっき造形物の製造方法、及び多官能ビニルエーテル化合物 | 2023年 9月 6日 | |
特許 7335757 | 感光性樹脂組成物、及びガラス基板のエッチング方法 | 2023年 8月30日 | |
特許 7335974 | 感光性インク組成物、硬化物、ディスプレイパネル、及び硬化物の製造方法 | 2023年 8月30日 | |
特許 7335975 | 感光性インク組成物、硬化物、ディスプレイパネル、及び硬化物の製造方法 | 2023年 8月30日 | |
特許 7333842 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び、化合物 | 2023年 8月25日 | |
特許 7330000 | 表面処理剤、表面処理方法及び基板表面の領域選択的製膜方法 | 2023年 8月21日 | |
特許 7319850 | 親水化処理方法、及び表面処理液 | 2023年 8月 2日 | |
特許 7316610 | 深紫外LED及びその製造方法 | 2023年 7月28日 | |
特許 7316398 | エネルギー感受性組成物、硬化物及び硬化物の製造方法 | 2023年 7月27日 | |
特許 7315376 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置及び基板洗浄用キット | 2023年 7月26日 |
121 件中 31-45 件を表示
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7345317 7341984 7340969 7340976 7341074 7339809 7335757 7335974 7335975 7333842 7330000 7319850 7316610 7316398 7315376
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
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11月22日(金) -
11月22日(金) -
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11月25日(月) - 岐阜 各務原市
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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