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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7573399 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年10月25日 | |
特許 7573678 | エッチング液、及び半導体素子の製造方法 | 2024年10月25日 | |
特許 7573030 | 化学増幅型感光性組成物、感光性ドライフィルム、めっき用鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 | 2024年10月24日 | |
特許 7570389 | レジスト組成物精製品、及びレジストパターン形成方法 | 2024年10月21日 | |
特許 7565768 | 硬化性組成物、硬化物、及び化合物 | 2024年10月11日 | |
特許 7565875 | 硬化性組成物、硬化物、及び硬化物の製造方法 | 2024年10月11日 | |
特許 7566089 | ポリマー、及びトリアジン化合物 | 2024年10月11日 | |
特許 7565043 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年10月10日 | |
特許 7561610 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 | 2024年10月 4日 | |
特許 7560954 | 感光性組成物、パターン化された硬化膜の製造方法、及びパターン化された硬化膜 | 2024年10月 3日 | |
特許 7561261 | 処理液、基板の処理方法、及び半導体基板の製造方法 | 2024年10月 3日 | |
特許 7558375 | 検査方法、樹脂組成物の製造方法、及びレジスト組成物又は熱硬化性組成物の製造方法 | 2024年 9月30日 | |
特許 7558440 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸発生剤 | 2024年 9月30日 | |
特許 7555759 | エッチング方法、及び感光性樹脂組成物 | 2024年 9月25日 | |
特許 7553245 | ハードマスク形成用組成物及び電子部品の製造方法、及び樹脂 | 2024年 9月18日 |
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7573399 7573678 7573030 7570389 7565768 7565875 7566089 7565043 7561610 7560954 7561261 7558375 7558440 7555759 7553245
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1月11日(土) -
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1月15日(水) -
1月15日(水) -
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1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
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1月14日(火) - 東京 港区
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