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東京応化工業株式会社

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  2024年 出願公開件数ランキング    第255位 124件 上昇2023年:第318位 109件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第252位 116件 上昇2023年:第281位 118件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-65698 洗浄液、及び基板の洗浄方法 2024年 5月15日
特開 2024-63957 重合体の製造方法、及び重合体 2024年 5月14日
特開 2024-63959 組成物及び重合体 2024年 5月14日
特開 2024-62661 エポキシ樹脂精製品の製造方法、及び感光性樹脂組成物の製造方法 2024年 5月10日
特開 2024-62920 下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 2024年 5月10日
特開 2024-62979 粒子捕捉デバイスおよび粒子捕捉方法 2024年 5月10日
特開 2024-62142 サブピクセルの少なくとも一部に色別発光体が埋め込まれた表示素子の隔壁用パターン、構造体、表示素子、及び隔壁用パターンの形成方法 2024年 5月 9日
特開 2024-60236 組成物、及び感光性組成物 2024年 5月 2日
特開 2024-60376 組成物、及び感光性組成物 2024年 5月 2日
特開 2024-60377 感光性組成物 2024年 5月 2日
特開 2024-59353 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物 2024年 5月 1日
特開 2024-59009 熱硬化性組成物 2024年 4月30日
特開 2024-59076 熱硬化性組成物 2024年 4月30日
特開 2024-54927 多孔質膜 2024年 4月18日
特開 2024-54477 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 2024年 4月17日

128 件中 76-90 件を表示

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2024-65698 2024-63957 2024-63959 2024-62661 2024-62920 2024-62979 2024-62142 2024-60236 2024-60376 2024-60377 2024-59353 2024-59009 2024-59076 2024-54927 2024-54477

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