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株式会社日立ハイテクサイエンス
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第838位 33件
（
2017年：第982位 31件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第744位 29件
（
2017年：第724位 32件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6320814 | Ｘ線分析装置 | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6320898 | Ｘ線発生源及び蛍光Ｘ線分析装置 | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6316064 | ＩＣＰ発光分光分析装置 | 2018年 4月25日 | |
| 特許 6305143 | 断面加工方法 | 2018年 4月 4日 | |
| 特許 6305247 | 蛍光Ｘ線分析装置 | 2018年 4月 4日 | |
| 特許 6305280 | 蛍光Ｘ線分析装置及びその試料表示方法 | 2018年 4月 4日 | |
| 特許 6305327 | 蛍光Ｘ線分析装置 | 2018年 4月 4日 | |
| 特許 6300553 | 荷電粒子ビーム装置 | 2018年 3月28日 | |
| 特許 6290559 | 断面加工観察方法、断面加工観察装置 | 2018年 3月 7日 | |
| 特許 6280964 | 発生ガス分析装置及び発生ガス分析方法 | 2018年 2月14日 | |
| 特許 6271189 | 荷電粒子ビーム装置 | 2018年 1月31日 | |
| 特許 6266458 | イリジウムティップ、ガス電界電離イオン源、集束イオンビーム装置、電子源、電子顕微鏡、電子ビーム応用分析装置、イオン電子複合ビーム装置、走査プローブ顕微鏡、およびマスク修正装置 | 2018年 1月24日 | |
| 特許 6266574 | Ｘ線検査方法及びＸ線検査装置 | 2018年 1月24日 | |
| 特許 6261178 | 荷電粒子ビーム装置、荷電粒子ビーム装置を用いた試料の加工方法、及び荷電粒子ビーム装置を用いた試料の加工コンピュータプログラム | 2018年 1月17日 |
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6320814 6320898 6316064 6305143 6305247 6305280 6305327 6300553 6290559 6280964 6271189 6266458 6266574 6261178
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