日本電子株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第547位 66件
（
2010年：第406位 107件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第532位 60件
（
2010年：第555位 49件）
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日本電子株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4705812 | 収差補正装置を備えた荷電粒子ビーム装置 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4688504 | タンデム飛行時間型質量分析装置 | 2011年 5月25日 | |
| 特許 4679181 | エネルギー分散型Ｘ線検出器および試料分析装置 | 2011年 4月27日 | 共同出願 |
| 特許 4679279 | トップエントリ式試料ステージ傾斜装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4660177 | 試料加工方法及び試料加工装置 | 2011年 3月30日 | 共同出願 |
| 特許 4660159 | 電子プローブＸ線分析装置及び該分析装置における分析条件設定方法 | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4660158 | 状態図を利用した相分析を行う表面分析装置 | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4660257 | 電子顕微鏡 | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4649234 | 垂直加速型飛行時間型質量分析計 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4649227 | ＮＭＲ装置 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4647977 | ＦＩＢ自動加工時のドリフト補正方法及び装置 | 2011年 3月 9日 | 共同出願 |
| 特許 4649245 | 荷電粒子応用装置のステージ位置制御装置 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4628127 | 試料表面の測定方法及び分析方法並びに電子ビーム装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4628230 | 荷電粒子線偏向装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4628163 | 飛行時間型質量分析装置 | 2011年 2月 9日 |
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4705812 4688504 4679181 4679279 4660177 4660159 4660158 4660257 4649234 4649227 4647977 4649245 4628127 4628230 4628163
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