日本電子株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第742位 45件
（
2012年：第544位 64件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第494位 71件
（2012年：第485位 70件）
（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日本電子株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5268567 | 試料ホルダ及びこれを用いた試料の観測方法 | 2013年 8月21日 | |
| 特許 5268630 | ステージの位置決め装置 | 2013年 8月21日 | |
| 特許 5259169 | タンデム型飛行時間型質量分析装置および方法 | 2013年 8月 7日 | |
| 特許 5254055 | 電子ビーム蒸着用電子銃装置 | 2013年 8月 7日 | |
| 特許 5248967 | 薄膜試料作成装置 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5253800 | 試料保持体及び観察・検査方法並びに観察・検査装置 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5249068 | 走査型電子顕微鏡 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5253923 | ガスクロマトグラフ質量分析装置用イオン源 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5249119 | 荷電粒子ビーム描画方法及び装置 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5249035 | 整形電子ビーム描画のための電子ビームカラム | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5243912 | 荷電粒子ビーム装置におけるビーム位置較正方法 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5243977 | 垂直加速型飛行時間型質量分析計 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5244003 | ＳＥＭ−ＦＩＢ複合装置におけるビーム照射位置の補正方法及び装置 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5237728 | 粒子線装置 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5237734 | 収差補正装置および該収差補正装置を備える荷電粒子線装置 | 2013年 7月17日 |
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5268567 5268630 5259169 5254055 5248967 5253800 5249068 5253923 5249119 5249035 5243912 5243977 5244003 5237728 5237734
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