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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第376位 103件 (2010年:第347位 127件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第886位 31件 (2010年:第2005位 9件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-195346 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-198952 | 荷電粒子ビーム描画用データの生成方法および荷電粒子ビーム描画用データ生成装置 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-198932 | 図形データの表示方法および図形データ表示装置 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-198783 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-198840 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-198922 | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-198583 | 電子銃のコンディショニング法およびコンディショニング装置 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-196728 | 検査装置および検査方法 | 2011年10月 6日 | 共同出願 |
特開 2011-192948 | 描画装置及び基板の判定方法 | 2011年 9月29日 | |
特開 2011-171543 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年 9月 1日 | |
特開 2011-171479 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2011年 9月 1日 | |
特開 2011-171450 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年 9月 1日 | |
特開 2011-171497 | マスクの製造方法 | 2011年 9月 1日 | |
特開 2011-171510 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 9月 1日 | |
特開 2011-171465 | 露光用マスクの製造方法 | 2011年 9月 1日 |
103 件中 16-30 件を表示
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2011-195346 2011-198952 2011-198932 2011-198783 2011-198840 2011-198922 2011-198583 2011-196728 2011-192948 2011-171543 2011-171479 2011-171450 2011-171497 2011-171510 2011-171465
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11月26日(火) -
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11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
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11月28日(木) - 京都 京都市
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
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11月30日(土) -
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12月1日(日) -
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