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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第609位 49件
（
2022年：第572位 53件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第509位 54件
（2022年：第398位 74件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2023-180856 | マルチ荷電粒子ビームの評価方法、マルチ荷電粒子ビーム描画方法、及びマルチ荷電粒子ビーム照射装置用アパーチャアレイ基板の検査方法 | 2023年12月21日 | |
| 特開 2023-177932 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2023年12月14日 | |
| 特開 2023-172433 | マルチ荷電粒子ビーム照射装置及びマルチ荷電粒子ビーム照射方法 | 2023年12月 6日 | |
| 特開 2023-170809 | 気相成長装置 | 2023年12月 1日 | |
| 特開 2023-168012 | 被覆率算出方法、荷電粒子ビーム描画方法、被覆率算出装置及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2023年11月24日 | |
| 特開 2023-165612 | 気相成長装置、及びリフレクタ | 2023年11月16日 | |
| 特開 2023-160972 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2023年11月 2日 | |
| 特開 2023-158784 | 電磁レンズ及び電子源機構 | 2023年10月31日 | |
| 特開 2023-142285 | 成膜方法 | 2023年10月 5日 | |
| 特開 2023-132765 | 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画装置及びプログラム | 2023年 9月22日 | |
| 特開 2023-130984 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2023年 9月21日 | |
| 特開 2023-128550 | マルチ２次荷電粒子ビーム検出装置 | 2023年 9月14日 | |
| 特開 2023-119902 | マルチ電子ビーム描画装置及びマルチ電子ビーム描画方法 | 2023年 8月29日 | |
| 特開 2023-119903 | パターン検査方法、及びパターン検査装置 | 2023年 8月29日 | |
| 特開 2023-118434 | マルチ荷電粒子ビーム装置の光学系調整方法及びプログラム | 2023年 8月25日 |
49 件中 1-15 件を表示
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2023-180856 2023-177932 2023-172433 2023-170809 2023-168012 2023-165612 2023-160972 2023-158784 2023-142285 2023-132765 2023-130984 2023-128550 2023-119902 2023-119903 2023-118434
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