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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第433位 79件 (2019年:第387位 99件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第402位 64件 (2019年:第385位 68件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2020-204497 | 検査装置 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-205160 | 収差補正器及びマルチ電子ビーム照射装置 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-205161 | マルチビーム検査装置 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-205314 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-205378 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-201394 | マスク検査装置、電子ビーム検査装置、マスク検査方法、及び電子ビーム検査方法 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-187916 | 荷電粒子ビーム装置 | 2020年11月19日 | |
特開 2020-183928 | 電子ビーム検査方法及び電子ビーム検査装置 | 2020年11月12日 | |
特開 2020-184582 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2020年11月12日 | |
特開 2020-184583 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2020年11月12日 | |
特開 2020-180034 | オゾン供給装置、オゾン供給方法及び荷電粒子ビーム照射システム | 2020年11月 5日 | |
特開 2020-180815 | ステージ機構及びテーブル高さ位置の調整方法 | 2020年11月 5日 | |
特開 2020-181902 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2020年11月 5日 | |
特開 2020-181963 | 半導体製造方法及び半導体装置 | 2020年11月 5日 | |
特開 2020-177757 | 荷電粒子発生装置 | 2020年10月29日 |
80 件中 1-15 件を表示
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2020-204497 2020-205160 2020-205161 2020-205314 2020-205378 2020-201394 2020-187916 2020-183928 2020-184582 2020-184583 2020-180034 2020-180815 2020-181902 2020-181963 2020-177757
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
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2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
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