特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社ニューフレアテクノロジー

※ ログインすれば出願人(株式会社ニューフレアテクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第433位　79件（2019年：第387位　99件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第402位　64件（2019年：第385位　68件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年

株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-204497	検査装置	2020年12月24日
特開 2020-205160	収差補正器及びマルチ電子ビーム照射装置	2020年12月24日
特開 2020-205161	マルチビーム検査装置	2020年12月24日
特開 2020-205314	マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置	2020年12月24日
特開 2020-205378	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2020年12月24日
特開 2020-201394	マスク検査装置、電子ビーム検査装置、マスク検査方法、及び電子ビーム検査方法	2020年12月17日
特開 2020-187916	荷電粒子ビーム装置	2020年11月19日
特開 2020-183928	電子ビーム検査方法及び電子ビーム検査装置	2020年11月12日
特開 2020-184582	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置	2020年11月12日
特開 2020-184583	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置	2020年11月12日
特開 2020-180034	オゾン供給装置、オゾン供給方法及び荷電粒子ビーム照射システム	2020年11月 5日
特開 2020-180815	ステージ機構及びテーブル高さ位置の調整方法	2020年11月 5日
特開 2020-181902	マルチ荷電粒子ビーム描画装置	2020年11月 5日
特開 2020-181963	半導体製造方法及び半導体装置	2020年11月 5日
特開 2020-177757	荷電粒子発生装置	2020年10月29日

80 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2020-204497 2020-205160 2020-205161 2020-205314 2020-205378 2020-201394 2020-187916 2020-183928 2020-184582 2020-184583 2020-180034 2020-180815 2020-181902 2020-181963 2020-177757

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ニューフレアテクノロジーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数