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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第410位 100件 (2012年:第343位 120件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第439位 82件 (2012年:第464位 75件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-251558 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2013年12月12日 | |
特開 2013-243285 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年12月 5日 | |
特開 2013-239492 | 評価用レイアウトデータ生成装置、荷電粒子ビーム描画装置及び評価用レイアウトデータ生成方法 | 2013年11月28日 | |
特開 2013-232616 | 荷電粒子ビームの偏向形状誤差取得方法及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-225665 | 炭化珪素の成膜装置および炭化珪素の成膜方法 | 2013年10月31日 | 共同出願 |
特開 2013-222831 | マスク描画装置のクリーニング方法、マスク描画装置 | 2013年10月28日 | |
特開 2013-214093 | パターンデータ作成方法、マスク作成方法、半導体装置の製造方法、パターン作成方法及びプログラム | 2013年10月17日 | |
特開 2013-211320 | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 | 2013年10月10日 | |
特開 2013-206996 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207253 | 描画データの検査方法及び描画データの検査装置 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207135 | 成形オフセット調整方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207254 | 荷電粒子ビーム描画装置、検査装置、及び描画データの検査方法 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207196 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207277 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-197468 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 9月30日 |
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2013-251558 2013-243285 2013-239492 2013-232616 2013-225665 2013-222831 2013-214093 2013-211320 2013-206996 2013-207253 2013-207135 2013-207254 2013-207196 2013-207277 2013-197468
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