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株式会社ニューフレアテクノロジー

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  2013年 出願公開件数ランキング    第410位 100件 下降2012年:第343位 120件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第439位 82件 上昇2012年:第464位 75件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2013-251558 半導体製造装置および半導体製造方法 2013年12月12日
特開 2013-243285 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2013年12月 5日
特開 2013-239492 評価用レイアウトデータ生成装置、荷電粒子ビーム描画装置及び評価用レイアウトデータ生成方法 2013年11月28日
特開 2013-232616 荷電粒子ビームの偏向形状誤差取得方法及び荷電粒子ビーム描画方法 2013年11月14日
特開 2013-225665 炭化珪素の成膜装置および炭化珪素の成膜方法 2013年10月31日 共同出願
特開 2013-222831 マスク描画装置のクリーニング方法、マスク描画装置 2013年10月28日
特開 2013-214093 パターンデータ作成方法、マスク作成方法、半導体装置の製造方法、パターン作成方法及びプログラム 2013年10月17日
特開 2013-211320 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 2013年10月10日
特開 2013-206996 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2013年10月 7日
特開 2013-207253 描画データの検査方法及び描画データの検査装置 2013年10月 7日
特開 2013-207135 成形オフセット調整方法及び荷電粒子ビーム描画装置 2013年10月 7日
特開 2013-207254 荷電粒子ビーム描画装置、検査装置、及び描画データの検査方法 2013年10月 7日
特開 2013-207196 成膜装置および成膜方法 2013年10月 7日
特開 2013-207277 半導体製造装置および半導体製造方法 2013年10月 7日
特開 2013-197468 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 2013年 9月30日

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2013-251558 2013-243285 2013-239492 2013-232616 2013-225665 2013-222831 2013-214093 2013-211320 2013-206996 2013-207253 2013-207135 2013-207254 2013-207196 2013-207277 2013-197468

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