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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第473位 74件
（
2013年：第410位 100件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第336位 115件
（
2013年：第439位 82件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-239178 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年12月18日 | |
| 特開 2014-239094 | マスク基板の温調装置、マスク基板の温調方法 | 2014年12月18日 | |
| 特開 2014-232071 | パターン検査方法及びパターン検査装置 | 2014年12月11日 | |
| 特開 2014-228670 | 焦点位置調整方法および検査方法 | 2014年12月 8日 | |
| 特開 2014-228375 | 検査感度評価方法 | 2014年12月 8日 | |
| 特開 2014-216407 | マスクカバー用アース機構、マスクカバー、荷電粒子ビーム描画装置、および荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年11月17日 | |
| 特開 2014-216528 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年11月17日 | |
| 特開 2014-216593 | 荷電粒子ビーム描画装置、フォーマット検査装置及びフォーマット検査方法 | 2014年11月17日 | |
| 特開 2014-215218 | 検査装置 | 2014年11月17日 | |
| 特開 2014-211417 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2014年11月13日 | |
| 特開 2014-209075 | 検査装置および検査方法 | 2014年11月 6日 | |
| 特開 2014-209599 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームの照射量変調係数の取得方法 | 2014年11月 6日 | |
| 特開 2014-206446 | パターン検査方法 | 2014年10月30日 | |
| 特開 2014-206466 | 検査方法および検査装置 | 2014年10月30日 | |
| 特開 2014-202482 | 検査方法および検査装置 | 2014年10月27日 |
74 件中 1-15 件を表示
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2014-239178 2014-239094 2014-232071 2014-228670 2014-228375 2014-216407 2014-216528 2014-216593 2014-215218 2014-211417 2014-209075 2014-209599 2014-206446 2014-206466 2014-202482
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