特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社ニューフレアテクノロジー

※ ログインすれば出願人(株式会社ニューフレアテクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2015年出願公開件数ランキング　　　第475位　70件（2014年：第473位　74件）

　■　2015年特許取得件数ランキング　　　第385位　67件（2014年：第336位　115件）

（ランキング更新日：2025年6月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2015-232549	検査方法、テンプレート基板およびフォーカスオフセット方法	2015年12月24日
特開 2015-232952	カソードの取得方法および電子ビーム描画装置	2015年12月24日
特開 2015-230273	マスク検査装置及びマスク検査方法	2015年12月21日
特開 2015-230298	検査方法	2015年12月21日
特開 2015-231020	露光システム及び露光方法	2015年12月21日
特開 2015-228471	マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置	2015年12月17日
特開 2015-215269	パターン位置測定方法	2015年12月 3日
特開 2015-216269	気相成長方法及び気相成長装置	2015年12月 3日
特開 2015-216278	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームのドーズ量異常検出方法	2015年12月 3日
特開 2015-216311	半導体基板、半導体基板の製造方法および半導体装置	2015年12月 3日
特開 2015-216321	電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法	2015年12月 3日
特開 2015-211119	荷電粒子ビーム描画装置	2015年11月24日
特開 2015-204404	マルチビーム描画方法およびマルチビーム描画装置	2015年11月16日
特開 2015-204434	サセプタ処理方法及びサセプタ処理用プレート	2015年11月16日
特開 2015-204449	半導体製造装置および半導体装置の製造方法	2015年11月16日

71 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2015-232549 2015-232952 2015-230273 2015-230298 2015-231020 2015-228471 2015-215269 2015-216269 2015-216278 2015-216311 2015-216321 2015-211119 2015-204404 2015-204434 2015-204449

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ニューフレアテクノロジーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数