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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第475位 70件
（
2014年：第473位 74件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第385位 67件
（2014年：第336位 115件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2015-232549 | 検査方法、テンプレート基板およびフォーカスオフセット方法 | 2015年12月24日 | |
| 特開 2015-232952 | カソードの取得方法および電子ビーム描画装置 | 2015年12月24日 | |
| 特開 2015-230273 | マスク検査装置及びマスク検査方法 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-230298 | 検査方法 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-231020 | 露光システム及び露光方法 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-228471 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2015年12月17日 | |
| 特開 2015-215269 | パターン位置測定方法 | 2015年12月 3日 | |
| 特開 2015-216269 | 気相成長方法及び気相成長装置 | 2015年12月 3日 | |
| 特開 2015-216278 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームのドーズ量異常検出方法 | 2015年12月 3日 | |
| 特開 2015-216311 | 半導体基板、半導体基板の製造方法および半導体装置 | 2015年12月 3日 | |
| 特開 2015-216321 | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 | 2015年12月 3日 | |
| 特開 2015-211119 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2015年11月24日 | |
| 特開 2015-204404 | マルチビーム描画方法およびマルチビーム描画装置 | 2015年11月16日 | |
| 特開 2015-204434 | サセプタ処理方法及びサセプタ処理用プレート | 2015年11月16日 | |
| 特開 2015-204449 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 | 2015年11月16日 |
71 件中 1-15 件を表示
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2015-232549 2015-232952 2015-230273 2015-230298 2015-231020 2015-228471 2015-215269 2015-216269 2015-216278 2015-216311 2015-216321 2015-211119 2015-204404 2015-204434 2015-204449
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