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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第364位 18件
（
2025年：第524位 53件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第645位 7件
（
2025年：第583位 39件）
（ランキング更新日：2026年3月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-46387 | スリップ評価方法及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2026年 3月13日 | |
| 特開 2026-46843 | マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置 | 2026年 3月13日 | |
| 特開 2026-43605 | 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画装置、及びプログラム | 2026年 3月12日 | |
| 特開 2026-43606 | 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画装置、及びプログラム | 2026年 3月12日 | |
| 特開 2026-44618 | マルチ電子ビーム描画装置及びマルチ電子ビーム描画方法 | 2026年 3月12日 | |
| 特開 2026-32501 | パターン検査装置 | 2026年 2月26日 | |
| 特開 2026-32502 | パターン検査装置、及びパターン検査方法 | 2026年 2月26日 | |
| 特開 2026-30293 | マルチ電子ビーム画像取得装置、及びマルチ電子ビーム画像取得方法 | 2026年 2月20日 | |
| 特開 2026-23526 | マルチ電子ビーム画像取得装置及びマルチ電子ビーム画像取得方法 | 2026年 2月13日 | |
| 特開 2026-22194 | 荷電粒子ビーム照射装置、荷電粒子ビーム照射方法、及びプログラム | 2026年 2月12日 | |
| 特開 2026-20992 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2026年 2月10日 | |
| 特開 2026-19905 | 電子ビーム調整方法、電子ビーム描画装置、及びプログラム | 2026年 2月 5日 | |
| 特開 2026-16095 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びプログラム | 2026年 2月 3日 | |
| 特開 2026-5819 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びプログラム | 2026年 1月16日 | |
| 特開 2026-7613 | アパーチャアレイ基板の開口補正量算出方法、アパーチャアレイ基板、ブランキングアパーチャアレイ基板、マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2026年 1月16日 |
18 件中 1-15 件を表示
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2026-46387 2026-46843 2026-43605 2026-43606 2026-44618 2026-32501 2026-32502 2026-30293 2026-23526 2026-22194 2026-20992 2026-19905 2026-16095 2026-5819 2026-7613
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