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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第383位 65件
（
2025年：第524位 55件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第857位 19件
（
2025年：第581位 40件）
（ランキング更新日：2026年10月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-164898 | データ処理方法、荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画装置及びプログラム | 2026年10月 9日 | |
| 特開 2026-164008 | ビームドリフト検知方法、ビームドリフト補正方法、マルチビーム描画装置、およびストッピングアパーチャ基板 | 2026年10月 9日 | |
| 特開 2026-162755 | ステージ機構、荷電粒子ビーム照射装置、及び荷電粒子ビーム照射方法 | 2026年10月 9日 | |
| 特開 2026-162753 | 荷電粒子ビーム描画方法、及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2026年10月 9日 | |
| 特開 2026-162752 | 照射量情報の補正方法、図形パターンのエッジ周辺領域の照射量情報取得方法、荷電粒子ビーム描画装置、及びプログラム | 2026年10月 9日 | |
| 特開 2026-162279 | 照射量算出方法、荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画装置及びプログラム | 2026年10月 8日 | |
| 特開 2026-161021 | 図形データ生成方法、図形データ生成装置、量子ビーム描画方法、量子ビーム描画装置及びプログラム | 2026年10月 8日 | |
| 特開 2026-157079 | 電子ビーム照射装置、及び接点導通検査方法 | 2026年10月 6日 | |
| 特開 2026-156493 | 電子デバイス | 2026年10月 6日 | |
| 特開 2026-151134 | マルチビーム描画装置、及びマルチビーム描画方法 | 2026年 9月29日 | |
| 特開 2026-150331 | 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画装置及びプログラム | 2026年 9月28日 | |
| 特開 2026-146955 | マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム画像取得装置、及びマルチ電子ビーム描画装置 | 2026年 9月17日 | |
| 特開 2026-143334 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2026年 9月 8日 | |
| 特開 2026-141507 | マルチ荷電粒子ビーム照射装置及びアライメント方法 | 2026年 9月 4日 | |
| 特開 2026-141452 | 電子ビーム調整方法、マルチ電子ビームの位置評価方法、及び電子ビーム画像取得装置 | 2026年 9月 4日 |
70 件中 1-15 件を表示
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2026-164898 2026-164008 2026-162755 2026-162753 2026-162752 2026-162279 2026-161021 2026-157079 2026-156493 2026-151134 2026-150331 2026-146955 2026-143334 2026-141507 2026-141452
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