特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社ニューフレアテクノロジー

※ ログインすれば出願人(株式会社ニューフレアテクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第343位　120件（2011年：第376位　103件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第464位　75件（2011年：第886位　31件）

（ランキング更新日：2024年11月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2012-233733	検査方法および検査装置	2012年11月29日
再表 2010-143303	転写装置及び転写方法	2012年11月22日
特開 2012-231188	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2012年11月22日
特開 2012-231094	荷電粒子ビーム描画装置	2012年11月22日
特開 2012-216649	荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置	2012年11月 8日
特開 2012-211834	パターン検査装置及びパターン検査方法	2012年11月 1日
特開 2012-212882	半導体製造装置および半導体製造方法	2012年11月 1日
特開 2012-212793	半導体装置の製造方法、描画装置、プログラム及びパターン転写装置	2012年11月 1日
特開 2012-212829	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2012年11月 1日
特開 2012-212774	荷電粒子ビーム描画装置の基板ズレ評価方法および荷電粒子ビーム描画システム	2012年11月 1日
特開 2012-212792	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2012年11月 1日
特開 2012-212950	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2012年11月 1日
特開 2012-209399	荷電粒子ビーム描画装置及び描画データの抽出方法	2012年10月25日
特開 2012-204173	電子銃、電子ビーム描画装置および電子銃の脱ガス処理方法	2012年10月22日
特開 2012-198570	半導体装置の製造方法及び露光用マスクへのパターン形成方法	2012年10月18日

120 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-233733 2010-143303 2012-231188 2012-231094 2012-216649 2012-211834 2012-212882 2012-212793 2012-212829 2012-212774 2012-212792 2012-212950 2012-209399 2012-204173 2012-198570

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ニューフレアテクノロジーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数