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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第343位 120件
(2011年:第376位 103件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第464位 75件
(2011年:第886位 31件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5107685 | 気相成長装置及び気相成長方法 | 2012年12月26日 | |
特許 5107619 | 描画データの作成装置及び描画データの作成方法 | 2012年12月26日 | |
特許 5095364 | トラッキング制御方法および電子ビーム描画システム | 2012年12月12日 | |
特許 5087238 | 半導体製造装置の保守方法及び半導体製造方法 | 2012年12月 5日 | |
特許 5087679 | 電子ビーム装置 | 2012年12月 5日 | |
特許 5087318 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年12月 5日 | |
特許 5087258 | 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画装置、位置ずれ量計測方法及び位置計測装置 | 2012年12月 5日 | |
特許 5078151 | 欠陥検出レベル調整方法および欠陥検査システム | 2012年11月21日 | |
特許 5079726 | 半導体製造方法および半導体製造装置 | 2012年11月21日 | |
特許 5079410 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年11月21日 | |
特許 5079408 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年11月21日 | |
特許 5068549 | 描画データの作成方法及びレイアウトデータファイルの作成方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5068515 | 描画データの作成方法、描画データの変換方法及び荷電粒子線描画方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5063071 | パタン作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年10月31日 | |
特許 5063035 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年10月31日 |
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5107685 5107619 5095364 5087238 5087679 5087318 5087258 5078151 5079726 5079410 5079408 5068549 5068515 5063071 5063035
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4月4日(金) -
4月4日(金) -
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
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4月11日(金) -
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