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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第376位 103件 (2010年:第347位 127件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第886位 31件 (2010年:第2005位 9件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-66036 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66035 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-65899 | 電子銃用のエミッタ製造方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-60804 | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置およびレイアウト表示方法 | 2011年 3月24日 | |
特開 2011-44464 | 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、および、荷電粒子ビーム描画用データの処理装置 | 2011年 3月 3日 | |
特開 2011-44463 | 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、および、荷電粒子ビーム描画用データの処理装置 | 2011年 3月 3日 | |
特開 2011-38149 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-39013 | 検査装置および検査方法 | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-38830 | 検査装置および検査方法 | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-40614 | 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法および振動成分抽出方法 | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-40694 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-40680 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-40672 | 基板処理方法 | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-40466 | 荷電粒子ビーム描画装置、偏向器間のタイミング調整方法、及び偏向アンプの故障検出方法 | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-40450 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2011年 2月24日 |
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2011-66036 2011-66035 2011-65899 2011-60804 2011-44464 2011-44463 2011-38149 2011-39013 2011-38830 2011-40614 2011-40694 2011-40680 2011-40672 2011-40466 2011-40450
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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