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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第343位 120件 (2011年:第376位 103件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第464位 75件 (2011年:第886位 31件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-77924 | 除害装置および半導体製造装置 | 2012年 4月19日 | |
特開 2012-72938 | 除害装置および半導体製造装置 | 2012年 4月12日 | |
特開 2012-69676 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 4月 5日 | |
特開 2012-69623 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2012年 4月 5日 | |
特開 2012-68321 | マスク欠陥検査装置およびマスク欠陥検査方法 | 2012年 4月 5日 | |
特開 2012-69752 | EUVマスクの製造方法 | 2012年 4月 5日 | |
特開 2012-69661 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 4月 5日 | |
特開 2012-69675 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 4月 5日 | |
特開 2012-69904 | 成膜装置および成膜方法 | 2012年 4月 5日 | |
特開 2012-69364 | 電子銃および電子銃を用いた電子ビーム描画装置 | 2012年 4月 5日 | |
特開 2012-69667 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 4月 5日 | |
特開 2012-69668 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 4月 5日 | |
特開 2012-59984 | マスク検査装置及び露光用マスク製造装置 | 2012年 3月22日 | |
特開 2012-54361 | 荷電粒子ビーム描画装置およびその照射量補正方法 | 2012年 3月15日 | |
特開 2012-54362 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 3月15日 |
120 件中 76-90 件を表示
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2012-77924 2012-72938 2012-69676 2012-69623 2012-68321 2012-69752 2012-69661 2012-69675 2012-69904 2012-69364 2012-69667 2012-69668 2012-59984 2012-54361 2012-54362
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11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
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