ホーム > 特許ランキング > キヤノンアネルバ株式会社 > 2011年 > 特許一覧
キヤノンアネルバ株式会社
※ ログインすれば出願人(キヤノンアネルバ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第260位 156件
（
2010年：第335位 133件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第403位 82件
（
2010年：第188位 176件）
（ランキング更新日：2025年2月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4652841 | 真空処理装置における水素原子発生源及び水素原子輸送方法 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4650919 | ＣＶＤ装置 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4646066 | 真空処理装置 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4642156 | 真空排気システム、真空排気システムの運転方法、冷凍機、冷凍機の運転方法、基板処理装置、電子デバイスの製造方法 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4632590 | 基板搬送システム及び基板処理装置 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4634581 | スパッタリング方法、表面処理方法、スパッタリング装置及び表面処理装置 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4634592 | 薄膜成膜液体原料用気化器 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4634572 | 銅薄膜形成方法 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4627916 | イオン化装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4627835 | スパッタリング装置及び薄膜形成方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4623837 | マグネトロンスパッタリング装置 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4623479 | マルチチャンバシステムのチャンバグループ化制御システム | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4617364 | 基板加熱装置及び処理方法 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4620879 | 基板温度制御機構及び真空処理装置 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4619450 | 真空薄膜形成加工装置 | 2011年 1月26日 |
82 件中 61-75 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4652841 4650919 4646066 4642156 4632590 4634581 4634592 4634572 4627916 4627835 4623837 4623479 4617364 4620879 4619450
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キヤノンアネルバ株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
＜エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け＞ 基礎から学ぶ／自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
2月14日(金) - 東京 千代田区
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
東京都江東区亀戸一丁目８番８号大樹生命亀戸ビル６階 6TH FLOOR, TAIJU SEIMEI KAMEIDO BLDG., 8-8, KAMEIDO 1-CHOME, KOTO-KU, TOKYO 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市中央区北浜東1-12 千歳第一ビル４階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
バーチャルオフィス化に伴い、お客様、お取引先様には個別にご案内させていただいております。 特許・実用新案 商標 外国特許 外国商標 コンサルティング
