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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-258270	基板載置台及び基板処理装置	2013年12月26日
特開 2013-257977	プラズマ処理装置及びプローブ装置	2013年12月26日
特開 2013-258244	エッチング方法及びプラズマ処理装置	2013年12月26日
特開 2013-257189	温度測定装置及び処理装置	2013年12月26日
特開 2013-258268	基板載置台及び基板処理装置	2013年12月26日
特開 2013-258383	成膜方法	2013年12月26日
特開 2013-258389	クーリング機構及び処理システム	2013年12月26日
特開 2013-258307	プラズマ処理装置、プラズマ生成装置、アンテナ構造体、及びプラズマ生成方法	2013年12月26日
特開 2013-258098	プラズマ処理装置、プラズマ生成装置、アンテナ構造体、及びプラズマ生成方法	2013年12月26日
特開 2013-258260	基板搬送方法及び基板搬送装置	2013年12月26日
特表 2013-546182	マイクロ波プラズマを用いる誘電膜堆積方法	2013年12月26日	共同出願
特開 2013-258409	誘導結合プラズマ処理装置	2013年12月26日
特開 2013-254906	基板処理装置及び基板処理方法	2013年12月19日
特開 2013-254796	半導体製造装置のメンテナンス機器及び半導体製造装置のメンテナンス方法	2013年12月19日
特開 2013-254812	ウエハ検査用インターフェース及びウエハ検査装置	2013年12月19日

712 件中 1-15 件を表示

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2013-258270 2013-257977 2013-258244 2013-257189 2013-258268 2013-258383 2013-258389 2013-258307 2013-258098 2013-258260 2013-546182 2013-258409 2013-254906 2013-254796 2013-254812

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