特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-179352	熱処理装置の運転方法	2013年 9月 9日
特開 2013-179329	針先位置検出装置及びプローブ装置	2013年 9月 9日
特開 2013-179308	基板搬送装置	2013年 9月 9日
再表 2012-11480	層間絶縁層形成方法	2013年 9月 9日
特開 2013-179252	基板処理ブラシ及び基板処理装置並びに基板処理方法	2013年 9月 9日
特開 2013-179257	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2013年 9月 9日
特開 2013-179156	基板処理装置	2013年 9月 9日
特開 2013-175740	載置台機構及びこれを用いたプラズマ処理装置	2013年 9月 5日
特開 2013-175552	処理液交換方法および基板処理装置	2013年 9月 5日
特開 2013-175573	基板載置台及びプラズマエッチング装置	2013年 9月 5日
特開 2013-175677	液処理装置、液処理方法及び記憶媒体	2013年 9月 5日
特開 2013-175702	半導体装置の製造方法	2013年 9月 5日
特開 2013-175514	冷却システム、冷却システムを備える基板処理装置及び冷却方法	2013年 9月 5日
特開 2013-175640	基板の表面改質方法、コンピュータ記憶媒体及び基板の表面改質装置	2013年 9月 5日
特表 2013-534712	プラズマドーピング装置、プラズマドーピング方法、半導体素子の製造方法、および半導体素子	2013年 9月 5日

712 件中 196-210 件を表示

... 14

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-179352 2013-179329 2013-179308 2012-11480 2013-179252 2013-179257 2013-179156 2013-175740 2013-175552 2013-175573 2013-175677 2013-175702 2013-175514 2013-175640 2013-534712

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数