ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2013年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
(2012年:第53位 714件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
(2012年:第37位 902件)
(ランキング更新日:2025年7月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-165116 | 成膜装置 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-163856 | スパッタ装置 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-165254 | プラズマドーピング装置、プラズマドーピング方法、半導体素子の製造方法、および半導体素子 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-165119 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2013年 8月22日 | |
再表 2012-2232 | プラズマ処理装置及び方法 | 2013年 8月22日 | |
再表 2012-1848 | 半導体装置の製造方法 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-162040 | 基板処理装置、これを備える塗布現像装置、及び基板処理方法 | 2013年 8月19日 | |
特開 2013-162029 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2013年 8月19日 | |
特開 2013-160804 | 周縁露光装置、周縁露光方法及び記憶媒体 | 2013年 8月19日 | |
特開 2013-162035 | 誘導結合プラズマ用アンテナユニット、誘導結合プラズマ処理装置および誘導結合プラズマ処理方法 | 2013年 8月19日 | |
特開 2013-161946 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2013年 8月19日 | |
特開 2013-161924 | 基板収容容器のパージ装置及びパージ方法 | 2013年 8月19日 | |
特開 2013-161915 | 基板搬送装置、基板搬送方法及び記憶媒体 | 2013年 8月19日 | |
特開 2013-161913 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2013年 8月19日 | |
特開 2013-161899 | 離脱制御方法及びプラズマ処理装置の制御装置 | 2013年 8月19日 |
712 件中 241-255 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2013-165116 2013-163856 2013-165254 2013-165119 2012-2232 2012-1848 2013-162040 2013-162029 2013-160804 2013-162035 2013-161946 2013-161924 2013-161915 2013-161913 2013-161899
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
7月14日(月) -
7月14日(月) -
7月15日(火) - 東京 品川区
7月16日(水) -
7月17日(木) -
7月17日(木) -
7月18日(金) - 東京 千代田区
7月18日(金) -
7月14日(月) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月24日(木) -
7月24日(木) -
7月24日(木) -
7月25日(金) -
7月25日(金) -
7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
7月25日(金) -
7月25日(金) -
〒541-0046 大阪市中央区平野町2丁目2番9号 ビル皿井2階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
茨城県龍ヶ崎市長山6-11-11 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪市北区豊崎3-20-9 三栄ビル7階 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング