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東京エレクトロン株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第60位 712件 下降2012年:第53位 714件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第45位 796件 下降2012年:第37位 902件)

(ランキング更新日:2020年7月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年  2012年  2014年  2015年  2016年  2017年  2018年  2019年  2020年 

公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2013-253660 継手部材、継手、基板処理装置、及び制限部材 2013年12月19日
特表 2013-545275 化学気相成長法による低温での誘電体膜の作製 2013年12月19日
特開 2013-254778 縦型熱処理装置及び縦型熱処理装置の運転方法 2013年12月19日
特開 2013-254812 ウエハ検査用インターフェース及びウエハ検査装置 2013年12月19日
特開 2013-254843 テンプレート及びインプリント装置 2013年12月19日
特開 2013-254796 半導体製造装置のメンテナンス機器及び半導体製造装置のメンテナンス方法 2013年12月19日
特開 2013-251416 積層膜の製造方法及び真空処理装置 2013年12月12日
特開 2013-249511 原料ガス供給装置、成膜装置、原料ガスの供給方法及び記憶媒体 2013年12月12日
特開 2013-249495 めっき処理装置、めっき処理方法および記憶媒体 2013年12月12日
特開 2013-249517 真空処理装置、真空処理方法及び記憶媒体 2013年12月12日
特開 2013-251509 基板検査装置 2013年12月12日
特開 2013-251344 めっき処理方法、めっき処理装置および記憶媒体 2013年12月12日
特開 2013-251409 ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法および基板処理装置 2013年12月12日
特開 2013-251574 マイクロ波プラズマ処理装置、及び冷却ジャケットの製造方法 2013年12月12日
特開 2013-251316 現像処理方法、現像処理装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2013年12月12日

712 件中 16-30 件を表示

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2013-253660 2013-545275 2013-254778 2013-254812 2013-254843 2013-254796 2013-251416 2013-249511 2013-249495 2013-249517 2013-251509 2013-251344 2013-251409 2013-251574 2013-251316

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