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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-145327	膜形成装置およびこの膜形成装置を用いた膜形成方法	2013年 7月25日
特開 2013-145919	薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法、薄膜形成装置及びプログラム	2013年 7月25日
特開 2013-145796	ＴｉＳｉＮ膜の成膜方法および記憶媒体	2013年 7月25日
特開 2013-145925	処理装置	2013年 7月25日
特開 2013-145916	熱処理装置、熱処理方法及び記憶媒体	2013年 7月25日
特開 2013-145806	プラズマ処理装置及びヒータの温度制御方法	2013年 7月25日
特開 2013-143542	半導体デバイス製造システム及び半導体デバイス製造方法	2013年 7月22日
特開 2013-143448	表面波プラズマ処理装置	2013年 7月22日
特開 2013-143432	プラズマ処理装置	2013年 7月22日
特開 2013-143425	基板処理システム及び基板位置矯正方法	2013年 7月22日
特表 2013-529858	シリコン凹部低減のためのエッチングプロセス	2013年 7月22日
特表 2013-529838	金属インターコネクトのために絶縁積層体を選択的にエッチングする方法	2013年 7月22日	共同出願
特開 2013-140950	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2013年 7月18日	共同出願
特開 2013-140959	プラズマ処理装置用の天板及びプラズマ処理装置	2013年 7月18日
特開 2013-139609	ＴｉＮ膜の成膜方法および記憶媒体	2013年 7月18日

712 件中 301-315 件を表示

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2013-145327 2013-145919 2013-145796 2013-145925 2013-145916 2013-145806 2013-143542 2013-143448 2013-143432 2013-143425 2013-529858 2013-529838 2013-140950 2013-140959 2013-139609

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