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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-129907	成膜装置	2013年 7月 4日
特開 2013-130428	半導体デバイスの検査装置	2013年 7月 4日
特開 2013-130427	半導体デバイスの検査装置	2013年 7月 4日
特開 2013-131729	処理装置	2013年 7月 4日
特開 2013-127909	プラズマ生成装置及びプラズマ処理装置	2013年 6月27日
再表 2011-114940	成膜装置	2013年 6月27日
特開 2013-128014	基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体	2013年 6月27日
特開 2013-128085	プラズマ処理装置及びガス供給部品	2013年 6月27日
特開 2013-128054	誘導結合プラズマ用アンテナユニットおよび誘導結合プラズマ処理装置	2013年 6月27日
特開 2013-128015	基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体	2013年 6月27日
再表 2011-108663	プラズマエッチング方法、半導体デバイスの製造方法、及びプラズマエッチング装置	2013年 6月27日
特開 2013-125938	熱処理装置用熱交換器、及び、これを備えた熱処理装置	2013年 6月24日
特開 2013-125762	成膜装置、および成膜方法	2013年 6月24日
特開 2013-124392	成膜装置	2013年 6月24日
特開 2013-124201	窒化ガリウム膜の成膜装置および成膜方法ならびに水素化ガリウム発生器	2013年 6月24日

712 件中 346-360 件を表示

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2013-129907 2013-130428 2013-130427 2013-131729 2013-127909 2011-114940 2013-128014 2013-128085 2013-128054 2013-128015 2011-108663 2013-125938 2013-125762 2013-124392 2013-124201

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