特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

（ランキング更新日：2025年7月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-119662	成膜装置	2013年 6月17日	共同出願
特表 2013-524517	リソグラフィ用途において放射線感受性を有する材料のラインを細くする方法	2013年 6月17日	共同出願
特開 2013-118229	搬送装置及び基板処理システム	2013年 6月13日
特開 2013-118211	基板収納容器	2013年 6月13日
特開 2013-118411	成膜装置	2013年 6月13日
特開 2013-118398	プラズマ処理装置	2013年 6月13日
特開 2013-117067	酸化ルテニウム膜の成膜方法	2013年 6月13日
特開 2013-117507	光干渉システム、基板処理装置及び測定方法	2013年 6月13日
再表 2011-99159	並列入出力信号分配器および並列入出力信号の分配方法	2013年 6月13日
特開 2013-115117	資源再利用装置、処理装置群コントローラ、資源再利用システム、資源再利用方法、及び資源再利用プログラム	2013年 6月10日
再表 2011-96208	基板保持具及び基板搬送装置及び基板処理装置	2013年 6月10日
特開 2013-115264	被処理基板支持構造、およびプラズマ処理装置	2013年 6月10日
特開 2013-115208	気化原料供給装置、これを備える基板処理装置、及び気化原料供給方法	2013年 6月10日
特開 2013-115141	基板処理装置	2013年 6月10日
特開 2013-112846	めっき処理装置、めっき処理方法および記憶媒体	2013年 6月10日

712 件中 376-390 件を表示

... 26

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-119662 2013-524517 2013-118229 2013-118211 2013-118411 2013-118398 2013-117067 2013-117507 2011-99159 2013-115117 2011-96208 2013-115264 2013-115208 2013-115141 2013-112846

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数