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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2025年7月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-251556 | 化合物半導体の熱処理方法及びその装置 | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-251379 | エッチング方法、エッチング装置及び記憶媒体 | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-249517 | 真空処理装置、真空処理方法及び記憶媒体 | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-251361 | 半導体装置の製造方法およびアニール方法 | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-251344 | めっき処理方法、めっき処理装置および記憶媒体 | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-249511 | 原料ガス供給装置、成膜装置、原料ガスの供給方法及び記憶媒体 | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-247283 | 搬送機構、搬送方法及び処理システム | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-247332 | シリコン膜の形成方法およびその形成装置 | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-247159 | パターン形成方法、パターン形成装置、及びコンピュータ可読記憶媒体 | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-245364 | 蒸着ヘッド | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-247287 | 成膜方法 | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-247285 | 成膜方法 | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-247280 | 接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-247292 | 接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-243312 | 搬送装置 | 2013年12月 5日 |
712 件中 31-45 件を表示
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2013-251556 2013-251379 2013-249517 2013-251361 2013-251344 2013-249511 2013-247283 2013-247332 2013-247159 2013-245364 2013-247287 2013-247285 2013-247280 2013-247292 2013-243312
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