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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2025年7月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-80834 | 半導体装置の製造方法 | 2013年 5月 2日 | |
| 特開 2013-77775 | 駆動装置及び基板処理システム | 2013年 4月25日 | 共同出願 |
| 特開 2013-77715 | 誘導結合プラズマ用アンテナユニットおよび誘導結合プラズマ処理装置 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-76113 | ガス供給装置及び成膜装置 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-77643 | 熱処理装置 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-77053 | 基板処理装置、基板処理装置のアラーム管理方法および記憶媒体 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-77846 | 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-77773 | 搬送装置 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-77664 | 基板裏面洗浄方法及び基板裏面洗浄装置 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-77610 | 基板処理装置 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-77594 | プラズマエッチング方法及び半導体装置の製造方法 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-77441 | マイクロ波放射機構、表面波プラズマ源および表面波プラズマ処理装置 | 2013年 4月25日 | |
| 特開 2013-74220 | 堆積物除去方法 | 2013年 4月22日 | 共同出願 |
| 特開 2013-71083 | パーティクル捕集装置及びパーティクルの捕集方法 | 2013年 4月22日 | |
| 特開 2013-71022 | 洗浄装置 | 2013年 4月22日 |
712 件中 481-495 件を表示
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2013-80834 2013-77775 2013-77715 2013-76113 2013-77643 2013-77053 2013-77846 2013-77773 2013-77664 2013-77610 2013-77594 2013-77441 2013-74220 2013-71083 2013-71022
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