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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-45903	成膜装置、基板処理装置及びプラズマ発生装置	2013年 3月 4日
特開 2013-45551	プラズマ処理装置、マイクロ波導入装置及びプラズマ処理方法	2013年 3月 4日
再表 2011-43244	成膜装置、成膜ヘッド及び成膜方法	2013年 3月 4日
特開 2013-45972	液処理装置、液処理方法および記憶媒体	2013年 3月 4日
特開 2013-45946	トレンチの埋め込み方法および半導体集積回路装置の製造方法	2013年 3月 4日
特表 2013-507008	切欠構造のなかで長尺状ルテニウム膜上に多段階式銅鍍金を行う方法。	2013年 2月28日	共同出願
特開 2013-39565	気体清浄化装置	2013年 2月28日
特開 2013-42175	基板保持部材、基板搬送アーム及び基板搬送装置	2013年 2月28日
特開 2013-42112	基板搬送装置、基板処理システムおよび基板搬送方法、ならびに記憶媒体	2013年 2月28日
特開 2013-42077	弁体、ゲートバルブ、及び基板処理システム	2013年 2月28日
特開 2013-40061	カーボンナノチューブの加工方法及び加工装置	2013年 2月28日
特開 2013-42008	成膜装置	2013年 2月28日
特開 2013-41993	膜割れ検出装置及び成膜装置	2013年 2月28日
特開 2013-40398	成膜装置及び成膜方法	2013年 2月28日
再表 2011-40385	Ｎｉ膜の成膜方法	2013年 2月28日

712 件中 571-585 件を表示

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2013-45903 2013-45551 2011-43244 2013-45972 2013-45946 2013-507008 2013-39565 2013-42175 2013-42112 2013-42077 2013-40061 2013-42008 2013-41993 2013-40398 2011-40385

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