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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-243134 | プラズマ処理方法、及びプラズマ処理装置 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-243135 | プラズマ処理装置 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-243326 | プローブ装置及びプローブ装置用ウエハ載置台 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-243331 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-243218 | プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-242267 | 光干渉システム及び基板処理装置 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-243406 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-243262 | 塗布方法、塗布装置、及びコンピュータ可読記憶媒体 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-237024 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年11月28日 | |
| 特開 2013-239717 | シリコン膜の形成方法およびその形成装置 | 2013年11月28日 | |
| 特開 2013-239485 | 可動ノズルおよび基板処理装置 | 2013年11月28日 | |
| 特開 2013-239574 | 太陽電池の製造方法及びプラズマ処理装置 | 2013年11月28日 | |
| 特開 2013-238363 | 排ガス加熱装置 | 2013年11月28日 | |
| 特開 2013-239575 | 載置台、及びプラズマ処理装置 | 2013年11月28日 | |
| 特開 2013-239491 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2013年11月28日 |
712 件中 46-60 件を表示
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2013-243134 2013-243135 2013-243326 2013-243331 2013-243218 2013-242267 2013-243406 2013-243262 2013-237024 2013-239717 2013-239485 2013-239574 2013-238363 2013-239575 2013-239491
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