特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

（ランキング更新日：2025年7月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-38184	液処理装置	2013年 2月21日
特開 2013-38178	基板処理装置及び同基板処理装置の除去処理体並びに基板処理方法	2013年 2月21日
特開 2013-33815	処理装置	2013年 2月14日
特開 2013-33828	成膜方法	2013年 2月14日
特開 2013-33816	プラズマ処理装置	2013年 2月14日
特開 2013-32575	タングステン膜の成膜方法	2013年 2月14日
再表 2011-34057	プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置用ガス供給機構	2013年 2月14日
再表 2011-33987	成膜方法、半導体素子の製造方法、絶縁膜および半導体素子	2013年 2月14日
特開 2013-33817	基板処理装置及び基板処理方法	2013年 2月14日
特開 2013-32938	パワーデバイス用のプローブカード	2013年 2月14日
特開 2013-34017	塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体	2013年 2月14日
特開 2013-33979	マイクロ波プラズマ処理装置	2013年 2月14日
特開 2013-33940	プラズマ処理装置	2013年 2月14日
特開 2013-33933	シリコン膜の形成方法およびその形成装置	2013年 2月14日
特開 2013-33925	洗浄方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、洗浄装置及び剥離システム	2013年 2月14日

712 件中 601-615 件を表示

... 41

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-38184 2013-38178 2013-33815 2013-33828 2013-33816 2013-32575 2011-34057 2011-33987 2013-33817 2013-32938 2013-34017 2013-33979 2013-33940 2013-33933 2013-33925

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数