特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

（ランキング更新日：2025年7月8日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-219380	成膜方法及び成膜装置	2013年10月24日	共同出願
特開 2013-219070	基板保持装置および基板保持方法	2013年10月24日
特開 2013-219100	プラズマ処理装置	2013年10月24日
特開 2013-219314	基板受け渡し装置、基板受け渡し方法及び記憶媒体	2013年10月24日
特開 2013-216923	基板処理システム	2013年10月24日
特開 2013-219069	基板保持装置および基板保持方法	2013年10月24日
特開 2013-219099	プラズマエッチング方法及びプラズマ処理装置	2013年10月24日
特開 2013-214724	液処理方法、液処理装置及び記憶媒体	2013年10月17日
特開 2013-213274	タングステン膜の成膜方法	2013年10月17日
特開 2013-213263	めっき処理装置、めっき処理方法および記憶媒体	2013年10月17日
特開 2013-213269	成膜方法及び記憶媒体	2013年10月17日
特開 2013-214676	剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2013年10月17日
特開 2013-214279	半導体製造装置のプロセス監視装置及び半導体製造装置のプロセス監方法並びに半導体製造装置	2013年10月17日
特開 2013-211525	液処理装置及び液処理方法	2013年10月10日
特開 2013-211317	搬送装置及び搬送方法	2013年10月10日	共同出願

712 件中 106-120 件を表示

... 8

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-219380 2013-219070 2013-219100 2013-219314 2013-216923 2013-219069 2013-219099 2013-214724 2013-213274 2013-213263 2013-213269 2013-214676 2013-214279 2013-211525 2013-211317

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数