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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-209722 | 成膜装置 | 2013年10月10日 | |
| 特開 2013-211317 | 搬送装置及び搬送方法 | 2013年10月10日 | 共同出願 |
| 特開 2013-210900 | 操作可否判定装置、操作可否判定方法及びコンピュータプログラム | 2013年10月10日 | |
| 特開 2013-211525 | 液処理装置及び液処理方法 | 2013年10月10日 | |
| 特開 2013-207089 | 自己組織化可能なブロック・コポリマーを用いて周期パターン形成する方法及び装置 | 2013年10月 7日 | |
| 特開 2013-207256 | 熱処理システム、熱処理方法、及び、プログラム | 2013年10月 7日 | |
| 特開 2013-207207 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | 2013年10月 7日 | |
| 特開 2013-206929 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | 2013年10月 7日 | |
| 特開 2013-206618 | ヒータ素線検査方法、加熱装置、及びこれを備える基板処理装置 | 2013年10月 7日 | 共同出願 |
| 特開 2013-206634 | マイクロ波放射アンテナ、マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置 | 2013年10月 7日 | |
| 特開 2013-206989 | ボロン含有シリコン酸炭窒化膜の形成方法およびシリコン酸炭窒化膜の形成方法 | 2013年10月 7日 | |
| 特開 2013-207080 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2013年10月 7日 | |
| 特開 2013-206957 | 基板処理システム、基板処理方法及び記憶媒体 | 2013年10月 7日 | |
| 特開 2013-207077 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2013年10月 7日 | |
| 特開 2013-206732 | 縦型バッチ式処理装置 | 2013年10月 7日 |
712 件中 121-135 件を表示
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2013-209722 2013-211317 2013-210900 2013-211525 2013-207089 2013-207256 2013-207207 2013-206929 2013-206618 2013-206634 2013-206989 2013-207080 2013-206957 2013-207077 2013-206732
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