ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2014年 > 特許一覧
東京エレクトロン株式会社
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5644916 | 塗布、現像装置 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646528 | 液処理装置 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5644719 | 成膜装置、基板処理装置及びプラズマ発生装置 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5644007 | 温度センサ及び熱処理装置 | 2014年12月24日 | 共同出願 |
| 特許 5645796 | 液処理装置及び液処理方法 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646419 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5645516 | 基板液処理装置及び処理液生成方法並びに処理液生成プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646758 | 半導体装置の製造方法、半導体装置及び配線形成用治具 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5644915 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5644219 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646190 | 洗浄方法及び処理装置 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5645718 | 熱処理装置 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646956 | 液体流量制御装置、液体流量制御方法および記憶媒体 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646354 | 液処理装置および液処理方法 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5643143 | 熱処理装置 | 2014年12月17日 | 共同出願 |
694 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5644916 5646528 5644719 5644007 5645796 5646419 5645516 5646758 5644915 5644219 5646190 5645718 5646956 5646354 5643143
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
千葉県柏市若柴178番地４ 柏の葉キャンパス148街区2 ショップ＆オフィス棟6階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許
大阪府大阪市西区靱本町1丁目10番4号 本町井出ビル2F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒220-0004 横浜市西区北幸１－１１－１５ 横浜ＳＴビル８階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
