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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5336968 | プラズマ処理装置用電極及びプラズマ処理装置 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5330563 | 成膜装置 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5326359 | 針跡検査装置、プローブ装置、及び針跡検査方法、並びに記憶媒体 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5327238 | 塗布処理装置、塗布処理方法及び記憶媒体 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5331096 | めっき処理装置 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5327135 | 周縁露光装置及び周縁露光方法 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5327144 | 処理装置及び処理方法 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5329072 | 処理容器およびプラズマ処理装置 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5327147 | プラズマ処理装置 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5329167 | 誘導結合プラズマ処理装置、誘導結合プラズマ処理方法および記憶媒体 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5330562 | 成膜装置 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5329352 | 超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5330793 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5323661 | 枚葉式の基板液処理装置における循環ラインの液交換方法 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5323306 | プラズマエッチング方法およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 | 2013年10月23日 |
794 件中 136-150 件を表示
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5336968 5330563 5326359 5327238 5331096 5327135 5327144 5329072 5327147 5329167 5330562 5329352 5330793 5323661 5323306
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