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東京エレクトロン株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
（
2011年：第62位 621件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
（2011年：第41位 739件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5029486 | 塗布装置、塗布方法及び記憶媒体 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028957 | 成膜方法及び成膜装置並びに記憶媒体 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5031252 | プラズマ処理装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5027753 | 基板処理制御方法及び記憶媒体 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5031186 | 基板処理方法、基板処理システム及び基板処理プログラム | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5023171 | 塗布処理方法、その塗布処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び塗布処理装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5024411 | 搬送装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5023505 | 成膜方法、プラズマ成膜装置及び記憶媒体 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5023646 | 排気系、捕集ユニット及びこれを用いた処理装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5023705 | 半導体装置の製造方法、半導体製造装置及び記憶媒体 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5026351 | 処理装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5026363 | エッチング量算出方法、記憶媒体及びエッチング量算出装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5026654 | 半導体処理装置で使用され得る可変ギャップストップ | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5023128 | 塗布現像装置及び塗布現像方法 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5022648 | 欠陥検査方法および欠陥検査装置 | 2012年 9月12日 |
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5029486 5028957 5031252 5027753 5031186 5023171 5024411 5023505 5023646 5023705 5026351 5026363 5026654 5023128 5022648
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