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東京エレクトロン株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第60位 712件 下降2012年:第53位 714件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第45位 796件 下降2012年:第37位 902件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5372779 原子層堆積システム及び方法 2013年12月18日 共同出願
特許 5369538 液処理装置及び液処理方法並びに記憶媒体 2013年12月18日
特許 5368393 気化装置、基板処理装置及び塗布現像装置 2013年12月18日
特許 5373853 半導体装置の製造方法 2013年12月18日
特許 5371238 プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 2013年12月18日
特許 5372836 液処理方法、その液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び液処理装置 2013年12月18日
特許 5373142 アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置 2013年12月18日
特許 5368514 プラズマ処理装置 2013年12月18日
特許 5369128 浮上式塗布装置 2013年12月18日
特許 5373669 半導体装置の製造方法 2013年12月18日
特許 5371605 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 2013年12月18日
特許 5372895 基板処理方法 2013年12月18日
特許 5373143 半導体装置の製造方法並びにコンタクトホール及び/又はラインの埋め込み方法 2013年12月18日
特許 5367522 プラズマ処理装置及びシャワーヘッド 2013年12月11日
特許 5363213 異常検出システム、異常検出方法、記憶媒体及び基板処理装置 2013年12月11日

794 件中 31-45 件を表示

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5372779 5369538 5368393 5373853 5371238 5372836 5373142 5368514 5369128 5373669 5371605 5372895 5373143 5367522 5363213

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