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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2021年1月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5372779 | 原子層堆積システム及び方法 | 2013年12月18日 | 共同出願 |
| 特許 5369538 | 液処理装置及び液処理方法並びに記憶媒体 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5368393 | 気化装置、基板処理装置及び塗布現像装置 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5373853 | 半導体装置の製造方法 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5371238 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5372836 | 液処理方法、その液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び液処理装置 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5373142 | アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5368514 | プラズマ処理装置 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5369128 | 浮上式塗布装置 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5373669 | 半導体装置の製造方法 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5371605 | 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5372895 | 基板処理方法 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5373143 | 半導体装置の製造方法並びにコンタクトホール及び／又はラインの埋め込み方法 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5367522 | プラズマ処理装置及びシャワーヘッド | 2013年12月11日 | |
| 特許 5363213 | 異常検出システム、異常検出方法、記憶媒体及び基板処理装置 | 2013年12月11日 |
794 件中 31-45 件を表示
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5372779 5369538 5368393 5373853 5371238 5372836 5373142 5368514 5369128 5373669 5371605 5372895 5373143 5367522 5363213
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