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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4677918 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4676189 | 高周波給電装置及びプラズマ処理装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4677681 | 熱電対の信号処理装置及び熱電対の信号処理方法並びに熱処理装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4678665 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4676074 | フォーカスリング及びプラズマ処理装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4675990 | メモリ装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4675772 | 液処理方法、液処理装置、制御プログラム、およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4674792 | 静電チャック | 2011年 4月20日 | 共同出願 |
| 特許 4673180 | 塗布装置及び塗布方法 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4672480 | 塗布処理装置 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4675127 | 薄膜形成装置、薄膜形成装置の洗浄方法及びプログラム | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4672464 | 洗浄装置および洗浄方法、ならびにコンピュータにより読取可能な記憶媒体 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4674705 | 搬送システムの搬送位置合わせ方法及び搬送システム | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4675401 | 基板搬送装置 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4675388 | 被処理体の処理装置 | 2011年 4月20日 |
739 件中 526-540 件を表示
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4677918 4676189 4677681 4678665 4676074 4675990 4675772 4674792 4673180 4672480 4675127 4672464 4674705 4675401 4675388
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