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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 4668364	プラズマ処理装置	2011年 4月13日
特許 4669605	半導体製造装置のクリーニング方法	2011年 4月13日
特許 4669137	分割可能な電極及びこの電極を用いたプラズマ処理装置	2011年 4月13日
特許 4671355	基板処理装置のクリーニング方法，基板処理装置，プログラムを記録した記録媒体	2011年 4月13日
特許 4670863	熱処理装置及び熱処理方法並びに記憶媒体	2011年 4月13日
特許 4670677	加熱装置、加熱方法、塗布装置及び記憶媒体	2011年 4月13日
特許 4669679	窒化珪素膜の製造方法及び半導体装置の製造方法	2011年 4月13日
特許 4668522	プラズマ処理方法	2011年 4月13日
特許 4666575	セラミック溶射部材の製造方法、該方法を実行するためのプログラム、記憶媒体、及びセラミック溶射部材	2011年 4月 6日	共同出願
特許 4666576	セラミック溶射部材の洗浄方法、該方法を実行するためのプログラム、記憶媒体、及びセラミック溶射部材	2011年 4月 6日
特許 4664119	プラズマ処理装置	2011年 4月 6日
特許 4664334	検査方法	2011年 4月 6日
特許 4666427	石英ウインドウ及び熱処理装置	2011年 4月 6日
特許 4666380	基板処理装置、基板処理方法、基板処理プログラム、及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2011年 4月 6日
特許 4665037	基板処理システム	2011年 4月 6日

739 件中 556-570 件を表示

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4668364 4669605 4669137 4671355 4670863 4670677 4669679 4668522 4666575 4666576 4664119 4664334 4666427 4666380 4665037

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