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東京エレクトロン株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第60位 712件 下降2012年:第53位 714件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第45位 796件 下降2012年:第37位 902件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5367000 プラズマ処理装置 2013年12月11日
特許 5363766 プラズマ処理装置システムの制御装置、プラズマ処理システムの制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体 2013年12月11日
特許 5363213 異常検出システム、異常検出方法、記憶媒体及び基板処理装置 2013年12月11日
特許 5362503 洗浄・乾燥処理方法、洗浄・乾燥処理装置、および記録媒体 2013年12月11日
特許 5366235 半導体装置の製造方法、半導体製造装置及び記憶媒体 2013年12月11日 共同出願
特許 5367522 プラズマ処理装置及びシャワーヘッド 2013年12月11日
特許 5357710 基板処理方法,基板処理装置,プログラムを記録した記録媒体 2013年12月 4日
特許 5358651 熱処理方法及び熱処理装置 2013年12月 4日
特許 5358436 プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 2013年12月 4日
特許 5356390 マイクロ波プラズマ発生装置およびマイクロ波プラズマ処理装置 2013年12月 4日
特許 5357487 シリコン酸化膜の形成方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体およびプラズマ酸化処理装置 2013年12月 4日
特許 5361847 基板処理方法、この基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び基板処理装置 2013年12月 4日
特許 5358366 基板処理装置及び方法 2013年12月 4日
特許 5359286 超臨界処理装置、基板処理システム及び超臨界処理方法 2013年12月 4日
特許 5357486 プラズマ処理装置 2013年12月 4日

794 件中 46-60 件を表示

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5367000 5363766 5363213 5362503 5366235 5367522 5357710 5358651 5358436 5356390 5357487 5361847 5358366 5359286 5357486

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